真空溅射是指在真空环境下（人为制造），当高能加速正电荷粒子打在固体表面，在固体表面的原子分子交换能量，导致这些原子分子被飞溅出来。真空蒸发则是在真空环境中吧制作薄膜的材料加热蒸发，然后使那些附体在热真空黄静下沉积在适当的表面上形成膜层。如果想要计算真空蒸发下镀膜的厚度的话，可以参照以下方法：在真空中气体分子的平均自由程是L=0，广州EMI屏蔽镀膜工艺，广州EMI屏蔽镀膜工艺.65/p（cm），广州EMI屏蔽镀膜工艺，其中的p单位表示的是气压Pa,气压要是达到p=1.3x10-3Pa的话，L 约为500cm，分子做直线运动。
真空蒸发镀膜首先要给镀膜提供一个真空环境（真空室），这是进行操作的必要环境；其次是蒸发加热器（蒸发源），用来放置蒸发材料并对这些物体进行加热；再者是要准备基板，用来接收蒸发物质并使其形成固态薄膜；另外还需要给基板加热器以及测温器等。真空蒸发采用热形式转换，将镀膜材料粒子进行蒸发升华，形成一定那个能量的气态离子。这些被蒸发的气态粒子通过基本无碰撞直线方式传输到基体上；而后粒子沉积体表面并凝聚成薄膜；蕞后再发生一些化学组建曾形成蕞终薄膜。
真空镀膜听起来是否会认为需要在太空环境下进行操作？其实有点形似了，其实人们在工业操作中已经可以自由控制制造真空环境了，真空镀膜其能下分为蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀膜这三种形式，这也是金属反射膜常用的三种镀膜方式。真空镀膜更多的是在真空下进性溅射镀膜的，广义上来说，需要在真空环境下进行镀膜处理的都就可以称为真空镀膜。真空镀膜可以理解为提供一个真空环境下，然后给其他需要镀膜的产品物体提供一个理想反应环境，再借助其他气体离子进行镀膜处理。
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