物理成膜能分为热蒸发、溅射、分子束外延MBE和离子镀这四种，其中热蒸发、溅射和离子镀这些镀膜方法还有下属细分。热蒸发镀膜下能分为电阻丝加热、石英坩埚加热、电子束加热和高频感应蒸发。溅射镀膜又能细分为磁控溅射、离子束溅射、脉冲激光沉淀、三级和四级溅射、直流二级溅射和射频溅射，南京真空镀膜生产商。离子镀又能细分为直流二级型、射频放电离子镀，南京真空镀膜生产商，南京真空镀膜生产商、电弧放电型真空、零气压溅射和自溅射这几种。镀膜技术非常多样化，但是有些镀膜技术还是有特定的使用要求的。
对于真空镀膜而言，我们可以简单的理解为是在真空环境下，利用蒸镀、溅射及凝结的方法，在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等材料上镀上金属薄膜或者是覆盖层。真空镀膜属于干式镀膜，在光学、电子学、理论仪器、机械和表面处理技术上有着***的应用。以真空镀膜的离子镀膜为例，它是在真空蒸镀、溅射镀膜的基础上发展而来的，所以它具有真空蒸镀、溅射镀膜两种镀膜方式的优点，离子镀膜是在真空条件下，利用气体放电使工作气体或被蒸发物质(膜材)部分离化，并在离子轰击下，将蒸发物或其反应物沉积在基片表面。
真空镀膜并单独局限在某一种方法上，是可以采用多种方法实现真空镀膜的，包括真空蒸镀、阴极溅射镀膜、化学气相沉积、离子镀膜等。所谓的真空蒸镀是把需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。所谓的阴极溅射镀是把需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的氩离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。所谓的化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。离子镀稍微用的少一点。
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